量产型ALD/CVD设备

 公司创新性地将半导体行业中的原子层薄膜沉积技术和化工制造中的大规模多相混合技术相结合，在国内首次提出了微纳米颗粒表面极限构筑/极限调控/极限制造（3E）概念，并成功开发了基于原子层沉积技术的粉体包覆装备。公司设计并开发了“级进式”空间型ALD粉体包覆设备，利用空间换时间的理念，攻克了千吨级粉体表面纳米级别包覆的技术难题。同时，通过对于前驱体用量的实时在线监控，使前驱体利用率达到95 %以上。该成果实现了实际应用，包括在耐高温抗腐蚀金属材料以及基于ALD的精准纳膜包覆掺杂（PNCD）工艺提升了锂电池正极材料在高电压下的稳定性。成果已在电池、导热和航空航天等领域得到成功应用，产生了显著的经济、社会和生态效益。本成果已经获得授权国家专利28项，其中，发明专利25项，实用新型专利3项。